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중국지식재산권국(CNIPA)은 2025년 11월 특허 심사지침을 개정하고, 2026년 1월 1일부터 새로운 이중출원(Dual Filing) 규정을 적용하고 있습니다. 그동안 많이 활용되던 ‘실용신안 + 발명 특허 동시 출원’ 방식에도 중요한 변화가 생겼는데요, 실무에서 꼭 알아 두셔야 할 핵심 포인트를 카드뉴스로 정리했습니다. 🔎 카드뉴스로 한눈에 확인해 보세요 👀 📩 자세한 내용이 궁금하시다면 #이공특허법률사무소로 지금 바로 문의해 주세요. 📧 mail@bspat.com .png "1_2026(1).png") .png "2_(19).png") .png "3_(16).png") .png "4_(14).png") .png "5_202611(1).png") .png "6_(14).png") .png "7_(10).png")
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